王曦    特聘教授
研究方向 半导体材料与器件(中科院上海微系统与信息技术研究所研究员)
联系方式 xwang@@mail.sim.ac.cn
备  注 院士
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  教育背景  
  研究介绍  
1、绝缘体上硅SOI材料: 利用离子注入、外延、键合等关键技术研制SOI材料,作为先进集成电路、硅基光子学、MEMS传感器等的衬底。同时开发高迁移率sSOI、SGOI、GOI等材料,有效提高MOS器件沟道载流子迁移率,满足纳米级集成电路技术发展需要;


2、先进SOI器件与电路: 研究SOI器件的尺寸缩小效应、自热效应和浮体效应等,设计、开发新型SOI器件与模型,应用于先进SOI集成电路设计服务平台。研究基于SOI加固材料设计与制造的大规模数字、模拟及混合信号芯片,满足抗总剂量和抗单粒子等严苛应用环境下的高可靠性元器件需求。


3、硅基光电集成技术: 探索硅基片上光操控机理,研发高速硅基光调制器、全硅光二级管等核心硅基器件。研究硅基异质集成GaN等化合物半导体材料,开发硅基光电融合技术,应用于半导体照明和光学探测器等领域。


4、“超越摩尔”集成电路工艺与产品设计: 瞄准手机等智能终端以及汽车电子应用,开发“超越摩尔”(More than Morre, MtM)集成电路新工艺,创新MtM产品设计。
  科研成果  
1. Junjie Du, Zhifang Lin, S. T. Chui, Wanli Lu, Hao Li, Aimin Wu, Zhen Sheng, Jian Zi, Xi Wang, Shichang Zou, and Fuwan Gan, “Optical Beam Steering Based on the Symmetry of Resonant Modes of Nanoparticles”, Phys. Rev. Lett. 106, 203903 (2011).
2. Xin Ou, Pratyush Das Kanungo, Reinhard Koegler, Peter Werner, Ulrich Goesele, Wolfgang Skorupa and Xi Wang, “Carrier Profiling of Individual Si Nanowires by Scanning Spreading Resistance Microscopy”, Nano Letters, 2010, 10 (1), pp 171–175.
3. Xin Ou , Pratyush Das Kanungo , Reinhard K?gler , Peter Werner , Ulrich G?sele ,Wolfgang Skorupa , and Xi Wang, “Three-Dimensional Carrier Profi ling of Individual Si Nanowires by Scanning Spreading Resistance Microscopy”, Advanced Materials 2010, 22, 4020–4024.
4. TYu, W.; Zhang, B.; Zhao, Q. T.; Buca, D.; Hartmann, J. M.; Luptak, R.; Mussler, G.; Fox, A.; Bourdelle, K. K.; Wang, X.; Mantl, S., “Hole Mobilities of Si/Si0.5Ge0.5 Quantum-Well Transistor on SOI and Strained SOI". IEEE Electr Device L. 33 (6), 758-760(2012).
5. Luo, J. X.; Chen, J.; Wu, Q. Q.; Chai, Z.; Zhou, J. H.; Yu, T.; Dong, Y. J.; Li, L.; Liu, W.; Qiu, C.; Wang, X., “A Tunnel Diode Body Contact Structure for High-Performance SOI MOSFETs”, IEEE T Electron Dev. 59 (1):101-107(2012).